我国科学家突破二维半导体材料异质结构筑难题 国际权威期刊《自然》发表重大成果

半导体异质结构的精密加工一直是材料科学领域的重要课题。

在传统硅基半导体工业中,通过在材料平面内横向精准构建异质结构,是实现新奇物性探索、新型器件研发和微型化集成的关键技术路径。

然而,随着研究向新型材料领域的拓展,科学家们面临着前所未有的挑战。

以二维卤化物钙钛矿为代表的离子型软晶格半导体材料,因其独特的光电性能而备受关注,但其晶体结构本身具有柔软性和不稳定性的特点。

传统的光刻加工、刻蚀等工艺技术在处理这类材料时往往反应过于剧烈,容易对材料的微观结构造成破坏,导致难以获得高质量的横向异质集成结构。

这一矛盾成为制约该领域发展的关键科学难题。

面对这一困境,中科大张树辰特任教授团队与国际合作者另辟蹊径,创新性地提出并发展了一种全新的加工方法。

研究人员深入分析了二维钙钛矿单晶在生长过程中的物理特性,发现晶体在生长阶段会自然累积内部应力。

基于这一发现,团队精心设计了一种温和的配体-溶剂微环境体系,能够选择性地激活并精确控制这些内应力的释放过程。

通过巧妙的工艺设计,研究人员引导单晶在预定位置发生可控的"自刻蚀"现象,形成规则排列的方形孔洞结构。

随后,利用快速外延生长技术,将不同种类的半导体材料精准回填到这些孔洞中,最终在单一晶片内部成功构筑出晶格连续、界面达到原子级平整的高质量"马赛克"异质结构。

这一创新方法的独特之处在于,它不是通过物理或化学手段从外部"拼接"不同材料,而是在同一块完整晶体内部,引导材料自身进行精密的"自我组装"。

这种范式转变具有重要的科学意义。

张树辰教授指出,这项技术突破意味着未来有可能在极薄的材料表面直接"生长"出密集排列的、能够发出不同颜色光的微小像素点,为高性能发光与显示器件的研发提供了全新的材料体系和设计思路。

从应用前景看,这一成果对集成电路和光电子器件产业具有重要意义。

相比传统工艺,新方法在保持材料优异性能的同时,实现了结构的可设计性和可编程性,为低维材料的集成化和器件化开辟了新的技术路径。

研究团队表示,这项工作首次在二维离子型材料体系中实现了对横向异质结结构的高质量、可设计性构筑,展现了驾驭晶体内应力与动力学的新范式,为理想化界面物理研究提供了全新的实验平台。

从“避免软晶格材料的脆弱”到“利用晶体自身的内在驱动力”,这一成果体现了材料科学中以机理创新带动工艺创新的思路转变。

面向未来,新材料的竞争不仅在于发现,更在于能否建立与之匹配的加工与集成方法。

把“晶体如何生长、如何演化”转化为“器件如何设计、如何制造”,或将成为推动低维半导体走向更高水平应用的重要路径。