中国自主研制ABF晶体实现深紫外激光三项世界纪录突破 为芯片制造和科学研究提供关键技术支撑

在真空紫外与深紫外激光领域,波长越短,能量越高,对材料和器件的要求也越严格,应用潜力也越大。国际学术界一直致力于实现更短波长、更高能量和更高效率的目标,但由于晶体材料的结构稳定性、透过范围和相位匹配等限制,技术突破面临巨大挑战。特别是在200纳米以下的深紫外区域,光源的实现不仅要克服材料吸收和损伤阈值的难题,还涉及复杂的晶体生长和器件加工过程,成为全球科研竞争的前沿领域。

从实验室的微观晶体到支撑高端制造的"激光心脏",ABF晶体的突破展现了基础研究与应用需求深度融合的价值。在全球核心技术竞争日益激烈的今天,中国科研团队以十年磨一剑的坚持证明:真正的技术突破既需要前沿的科学探索,也需要扎实的工艺积累。这场关于光的技术革命仍在继续,而中国科学家已经掌握了开启未来之门的钥匙。