当前，全球半导体产业正处在关键转型期。荷兰ASML公司生产的极紫外（EUV）光刻机是先进芯片制造的重要设备，也成为产业链中的关键制约点，推动各国加快探索替代技术路线。我国科研团队在量子芯片、光子芯片和碳基芯片等方向取得多项进展，为降低外部限制影响提供了新的思路。
芯片制造没有“一步跨越”的捷径；新型芯片路线的意义不在于口号式“摆脱”，而在于用工程化能力把实验室优势转化为产业确定性：在可控工艺条件下先做出可用、可卖、可扩展的产品与生态，才能在全球技术竞争中积累主动权，并为下一代颠覆性突破争取时间与空间。