国产直写光刻装备集中亮相慕尼黑上海光博会 50纳米精度等突破加速微纳制造自主可控

在光电产业蓬勃发展的时代,高端光刻装备的国产化成为科技自立的重要课题。长期以来,微纳加工的核心设备依赖进口——技术门槛高、成本昂贵——制约了国内科研和产业升级。此次展会上,玉之泉精密仪器有限公司展示的直写光刻技术成果,标志着我国在此领域取得重要进展。

玉之泉的技术突破具有重要战略意义。直写光刻系统长期被发达国家垄断,成为制约我国高端制造业发展的瓶颈。如今,国内企业通过自主创新实现了追赶到并跑的转变,为量子芯片、生物医疗等战略性新兴产业提供了支撑,也为国产高端科学仪器树立了典范。这充分说明,坚持自主创新、聚焦关键领域、深化研发投入,我国完全有能力在高端装备制造领域实现更多突破,为产业升级和经济高质量发展提供支撑。