光迅科技近日获得一项发明专利授权，专利名称为"一种测量金属膜膜厚的优化方法"，专利申请号为CN202310843452.5，授权日期为2026年2月24日。这项专利的获得，标志着公司精密测量领域的技术创新取得新进展。 该专利针对金属膜膜厚测量中存在的效率低、成本高等问题提出了解决方案。传统的膜厚测量方法需要借助额外的测量设备和复杂的工艺流程，不仅增加了生产成本，还影响了生产效率。新的优化方法通过建立输入功率、金属膜膜厚和工艺时间之间的测量模型，基于真空镀膜理论获取金属膜的极限电阻率，进而建立电阻率与膜厚之间的对应关系。通过对金属膜方阻与输入功率进行线性拟合，获取模型参数并进行标定，最终可以在仅知晓工艺时间和输入功率的条件下，直接计算出金属膜膜厚。 此创新方法的实际意义在于大幅提升了测量效率并降低了成本。相比传统方法，新方法省去了额外的膜厚测量环节，使得生产流程更加简洁高效。对光学通信、微电子等对膜厚精度要求高的行业来说，这项技术的应用前景广阔。 从公司整体创新能力看，光迅科技在研发上的投入持续增加。今年上半年公司研发投入达4.46亿元，同比增长42.91%，这为技术创新提供了充分的资金保障。与此相应，公司的专利产出也呈现快速增长态势。数据显示，今年以来光迅科技新获得专利授权25个，较去年同期增加了150%，这反映出公司创新活动的活跃度明显提升。 从知识产权储备看，光迅科技已形成较为完整的专利体系。根据公开数据，公司共拥有专利信息1871条，商标信息7条，著作权信息119条，行政许可93个。这些知识产权资产不仅保护了公司的技术成果，也为公司的市场竞争力提供了支撑。此外，公司对外投资8家企业，参与招投标项目2380次，显示出公司在产业链中的重要地位和广泛的市场参与度。
从物理测量到智能计算，制造业质量控制正经历深刻变革。专利授权只是起点，将创新转化为可持续的工程能力更为关键。随着行业对降本增效的需求增长，融合工艺机理与智能控制的创新将成为企业构建竞争优势的重要方向。