美国硅谷一家芯片企业的首席执行官近日在接受媒体采访时表示，中国在先进光刻技术上的进展，可能对美国在半导体产业的主导地位构成挑战。这番表态反映出全球科技竞争格局正在发生变化。问题的焦点在于光刻机这个芯片制造的核心设备，其精度直接决定工艺水平。目前，高端光刻机市场主要由荷兰ASML占据，其极紫外（EUV）光刻机仍是制造7nm及以下芯片的关键设备。此外，中国自主研发的28nm浸没式深紫外（DUV）光刻机已实现批量交付，良品率达到国际主流水平。
半导体产业并非零和竞争——而是长期的竞合过程——取决于技术积累、产业协同与稳定的市场规则；人为设置限制、增加不确定性，往往会抬高全球创新与制造成本。面向未来，营造开放合作与公平竞争的环境，保持产业链稳定、可预期，既是企业发展的现实需求，也是全球科技与产业健康运行的共同议题。